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GB 4789.15-2016相比GB 4789.15-2010，最大的區別可能就在于對平皿的培養方式。2016版的國標在5.2中要求：瓊脂凝固后，正置平板，置28℃±1℃培養箱中培養，觀察并記錄培養至第5d的結果。
其實針對這一條，需要注意兩點：
第一，是需要對平板進行觀察的，不能直接培養至第5天計數，因為霉菌的特殊性，在培養過程中會產生大量孢子，導致整個平板蔓延。因此，在培養后的第2天開始，就要對平板進行觀察，并計數典型菌落，而這樣的觀察在之后每一天都應該進行，直至培養第5天。
第二，就是正置培養。這一點是16版國標與舊版最大的區別，10版之前的國標都是倒置培養的。而進行正置培養，很多朋友可能都會遇到平板被霉菌污染的問題，比如圖中的情況，這怎么解決呢？
遇到這種情況，一開始我們也是十分疑惑，檢測方法的霉菌是從哪里來的呢！
其實造成這種情況的原因有很多種，可能有培養箱環境污染，平皿冷凝水污染，操作環境污染、培養基問題等等，這些問題都該如何解決呢？
污染原因與解決措施
一、培養箱環境污染
很多實驗室培養霉菌采用的是專用的霉菌培養箱，所以培養箱空間里會有大量的霉菌孢子。而平皿的蓋和底是有一定縫隙的，尤其是玻璃平皿縫隙還是比較大的，正置培養中，孢子會向上飛揚通過縫隙落到平板的培養基上，導致污染。細心地實驗猿可能發現，污染的菌落大部分都是在平皿邊緣生長的。用一次性塑料平皿來培養，污染的概率就會小很多，因為一次性塑料平皿的蓋和底之間的縫隙相比之下是比較小的。因此培養箱環境中的孢子可能會是主要污染源。
這樣一來，解決的方法就應該是對培養箱進行殺菌。可以考慮用紫外線殺一下菌，同時輔助消毒劑擦拭的方法，常用消毒劑比如75%酒精和新潔爾滅等，應該注意的是，這樣的殺菌操作也是需要經常進行的，因為霉菌的孢子是十分難清除的，而每次培養可能又會引進新的污染源，可以考慮每周進行兩次，保證培養環境無污染源。
二、平皿冷凝水污染
正置培養過程中，若是平皿的上蓋有泠凝水，在培養過程中冷凝水滴落到培養基上，也極容易造成菌落蔓延，平皿污染。因此在培養之前，一定要保證平皿干燥，可以把平皿放在37℃的環境里烘干，烘干之后再進行培養，就會避免這個原因造成的污染。
三、操作環境和培養基的污染
因為無菌室里可能也會因為滅菌效果不理想造成污染。小編之前工作的實驗室，操作臺使用紫外線滅菌，經常就會滅菌不徹底有孢子污染，尤其是在進行過霉菌的相關檢測之后。所以在進行過霉菌檢測之后，適當的增長滅菌時間，可能會達到比較理想的效果。另外，為了徹底解決無菌室空間孢子污染的問題，可以購買安裝臭氧發生器，通過紫外線+臭氧的雙重消毒模式，效果就十分理想了。
大家如果還是想驗證一下究竟是什么原因造成的污染，這里提供一個簡單的驗證試驗：在正常檢測的環境中倒一組空白平皿，將這些平皿分為AB兩組，其中A組用有充足氧氣的自封袋將平皿封好，B組不封，均放置在培養箱中正置培養。若是A組B組均有霉菌生長，則需要考慮培養基污染或者操作環境的污染；若是A組不生長霉菌而B組生長，則需要考慮是培養箱內的環境污染。通過這個小試驗，可以基本上確定污染源，然后針對污染源進行相應的處理。
